編集後記

2010年8月

8月の末になっても猛暑が続いていますが、皆さんお元気にお過ごしでしょうか。

6月からの2月の間に基本技術マップと分析サロンを更新いたしました。 資料の作成にご協力頂いた皆様に感謝申し上げます。第２回分析サロン「SPMによる不純物の二次元分布評価の現状と将来性」では、 西澤正泰様(産総研)、張利様(東芝)には多大なご協力を頂き、すばらしい資料にまとまったと考えています。

6月の編集後記にも書きましたとおり、分析サロンでは多くの方が興味を持たれている技術をテーマとする予定です。 計測分析技術掲示板での閲覧数を皆さんの関心が高い分野を把握する指標としており、 8月末時点で閲覧数の多いテーマは次のとおりとなっています。

1. NBDとCBED
2. ICP-MS測定時の検出限界について
3. SPMベースの不純物測定法について
4. EELSスペクトル デコンボリューション
5. ARXPSデータにMEM法を適用した深さ方向分析について
6. 拡散層の評価について
7. TXRFとICP-MSの使い分けについて
8. SiO2膜内の欠陥観察
9. 仕事関数と二次電子収率に関する疑問
10. 雰囲気の微量分析

これらを参考として皆さんに有益となる新たな情報発信を図っていく予定ですのでご期待下さい。

HP編集委員