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[1703] Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 2010-08-22 13:41:52
お名前 : yamada [ホームページ] [F1(.jpg)] カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術
 付着形態(フィルム状、塊状など)による検出強度の入射角度依存性を模式的に書いた図を添付ファイルに示します。フィルム状またはSi基板表面層の汚染の場合は、全反射臨界角付近にピークが生じますが、パーティクル等ような塊状の場合は全反射臨界角より低い入射角度でもX線が検出されます。
 フィルム状の汚染についてはもう少し詳細に解析できたと思います。A.S.さんが紹介されている文献はすぐに入手できません。他の資料をご存知方は教えて下さい。
 
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題名 お名前 投稿日付 No. カテゴリー
 ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 yt 2010-08-05 07:42:58 1700 計測分析技術
  └ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 A.S. 2010-08-14 21:02:46 1701  
  └ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 成膜担当 2010-08-17 22:18:40 1702  
    └ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 yamada 2010-08-22 13:41:52 1703  
      └ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 A.S. 2010-08-23 00:03:28 1704  
        └ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価 yamada 2010-08-23 22:14:58 1705  


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